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    176层3D NAND闪存时代来临!美光、三星、海力士全力扩产

    来源:存储网 2021-11-25 00:13业界资讯

     固态硬盘的技术发展,大体集中在接口协议和闪存堆叠两个维度,接口协议方面PCIe5.0的杀到,已然掀起了新的行业震动;而关于更高堆叠层数的闪存,也传来了新的技术突破。

    据digitimes报道,消息人士指出,美光科技率先将其176层3D NAND闪存制造工艺转向量产,SK海力士紧随其后,在第四季开始量产。

    “三星电子也将通过其位于平泽的第三工厂 (P3) 安装一条新的工艺生产线来提高176 层 3D NAND芯片的产量。当新产能上线时,三星每月将额外生产 40,000-50,000 片晶圆。”消息人士说道。

    176层3D NAND闪存时代来临!美光、三星、海力士全力扩产

    消息人士称,明年手机和消费类固态硬盘将越来越多地采用176层3D NAND 闪存,到2022年底,整体NAND闪存供应的25%以上将是176层3D NAND 闪存芯片,高于2021年第四季度的近 5%。

    此外,自今年第四季度以来,电源管理IC和闪存设备控制器芯片的短缺状况持续改善,鼓励NAND闪存芯片制造商扩大产量。不过消息人士警告称,2022 年上半年 NAND 闪存的供应可能会超过需求。 

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